浙江大學(xué)光刻浸液系統(tǒng)模型
浙江大學(xué)機械工程學(xué)院啟爾團隊，堅持十五年基礎(chǔ)研究和技術(shù)攻關(guān)，突破光刻機浸液系統(tǒng)設(shè)計制造關(guān)鍵技術(shù)，為高端光刻機國產(chǎn)化研制奠定了基礎(chǔ)。
浙江大學(xué)光刻浸液系統(tǒng)模型
浙江大學(xué)光刻浸液系統(tǒng)模型
光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為光、機、電一體化的超大型復(fù)雜系統(tǒng)，面臨著很多“卡脖子”技術(shù)難題。
